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田中 茂
プラズマ生成制御技術とその応用; テキスト, p.111 - 113, 1989/12
原研では、JFT-2、JFT-2M、JT-60とトカマク装置が大型化するにつれ、これら装置に必要な中性粒子入射パワーも100kW、2MW、20MWとほぼ一桁ずつ上昇してきた。このため、中性粒子入射装置に必要なイオン源の単基当り出力も高める必要があり、大容量イオン源の開発が十数年間にわたり実施されてきた。本講習では、JT-60NBI用正イオン源(100keV、40A、10S)実現に到るまでのNBI用正イオン源開発の経緯と、その間に培われた大容量イオン源技術を紹介する。またJT-60NBI用イオン源を用いて行なわれた、各種イオンビーム引き出しの実験結果と考えられる応用例を説明するとともに、多極磁場型プラズマ源を電子源として利用したJEBIS用プラズマ電子銃(100keV、4A、DC)についても説明する。最後に、近年の進展著しい、負イオン源の開発状況についても概説する。